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中微发布了第一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo nanova®

放大字体  缩小字体发布日期:2018-03-13 11:17  浏览次数:26
摘 要:  中微半导体设备(上海)有限公司在本周举办的SEMICON China期间正式发布了第一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo nanova,用
  中微半导体设备(上海(http://sh.shimaoba.com/))有限公司(http://www.shimaoba.com/company/)在本周举办的SEMICON China期间正式发布了第一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo nanova®,用于大批量生产存储芯片和逻辑芯片的前道工序。

Primo nanova采用了中微具有自主知识产权的电感耦合等离子体刻蚀技术和许多创新的功能,以帮助客户达到芯片制造工艺的关键指标,例如关键尺寸(CD)刻蚀的精准度、均匀性和重复性等。

Primo nanova创新的设计包括:完全对称的反应腔,超高的分子泵抽速;独特的低电容耦合线圈设计和多区细分温控静电吸盘(ESC)。
 
  中微首台Primo nanova®设备已在客户生产线上正常运行,良率稳定。

目前中微公司正在和更多客户合作,进行刻蚀评估。在中微提供了一系列电容耦合等离子体刻蚀设备之后,这一电感耦合等离子体刻蚀新设备大大增强了中微的刻蚀产品(http://www.shimaoba.com/sell/)线,能涵盖大多数芯片前段的刻蚀应用。
 
 
 
 
 
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